NTE-4000（M）熱蒸發(fā)系統(tǒng)：NTE-4000是PC控制的立式熱蒸發(fā)系統(tǒng)，在有機(jī)物和金屬沉積方面具有廣泛的應(yīng)用。設(shè)備具有占地面積小、干凈、均勻、可控及可重復(fù)的工藝特點(diǎn)。具有低價(jià)格, 高性能以及高能力的特點(diǎn)，可滿(mǎn)足于客戶(hù)研發(fā)及小規(guī)模生產(chǎn)的應(yīng)用要求，該系統(tǒng)可以在設(shè)定的RMS電流下，或者在閉環(huán)的配置下操作，并且在這種情況下沉積速度的變化被用于調(diào)節(jié)RMS電流以維持恒定的沉積速度。

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更新時(shí)間：2025-09-17
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熱蒸發(fā)鍍膜

NTE-4000（M）熱蒸發(fā)系統(tǒng)概述：NANO-MASTER NTE-4000是一款PC計(jì)算機(jī)控制的臺(tái)式熱蒸發(fā)系統(tǒng)，在有機(jī)物和金屬沉積方面具有廣泛的應(yīng)用。設(shè)備的設(shè)計(jì)經(jīng)過(guò)非常慎重的考慮:在小的占地面積情況下實(shí)現(xiàn)干凈、均勻、可控及可重復(fù)的工藝過(guò)程。它們具有低價(jià)格, 高性能以及高能力的特點(diǎn)，可滿(mǎn)足于客戶(hù)研發(fā)及小規(guī)模生產(chǎn)的應(yīng)用要求。 NTE-3000熱蒸發(fā)系統(tǒng)可以在設(shè)定的RMS電流下，或者在閉環(huán)的配置下操作，并且在這種情況下沉積速度的變化被用于調(diào)節(jié)RMS電流以維持恒定的沉積速度。

NTE-4000（M）蒸發(fā)系統(tǒng)是一個(gè)臺(tái)式系統(tǒng)，跟我們的濺射系統(tǒng)共享一個(gè)共同的平臺(tái)；比如：櫥柜，腔體，真空系統(tǒng)，計(jì)算機(jī)控制架構(gòu)等方面都是一樣的。*的區(qū)別是一個(gè)使用磁控管，另一個(gè)使用加熱坩堝. 因此，在我們?yōu)R射系統(tǒng)上的許多技術(shù)同樣適用到我們的熱蒸發(fā)系統(tǒng)中，比如：樣品臺(tái)的加熱，旋轉(zhuǎn)，偏斜；涂覆前的等離子清洗，膜厚監(jiān)測(cè)，序列或同時(shí)操作多源；鐘罩、鋁或不銹鋼腔體；預(yù)真空鎖以及自動(dòng)裝片/取片系統(tǒng)等。

NTE-4000跟NSC-4000很像, 除了樣片臺(tái)是在頂部并且樣片是面朝下固定。因?yàn)橛性S多的共同點(diǎn)，我們可以提供NTS系列的系統(tǒng)(NTS-3000, NTS-4000)，具有濺射和蒸發(fā)兩種能力。通過(guò)計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)，我們可以在同一套系統(tǒng)上提供濺射和蒸發(fā)能力，這樣可以充分利用濺射和蒸發(fā)技術(shù)，而無(wú)須中斷真空。

Nano-Master的蒸發(fā)系統(tǒng)的另一大*優(yōu)勢(shì)是持續(xù)性地控制加熱器電流，而不是震蕩式控制加熱器。系統(tǒng)裝配固態(tài)電流控制電路，這點(diǎn)跟許多系統(tǒng)采用的自藕變壓器不同。在該系統(tǒng)中，電流或者RMS值的持續(xù)時(shí)間被控制。用戶(hù)可以選擇一個(gè)設(shè)定值，它實(shí)際上是設(shè)定交流電半周期的部分，會(huì)出現(xiàn)跟鎢加熱器電線(xiàn)的交叉。這樣，系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)精確快速的電流控制，這使得閉環(huán)溫度控制就可以實(shí)現(xiàn)。此外，電流控制以及溫度控制，可以滿(mǎn)足蒸發(fā)的苛刻要求，無(wú)論是對(duì)有機(jī)材料還是對(duì)金屬。我們測(cè)量坩堝TB的RMS電壓，RMS電流，和溫度，并通過(guò)熱電偶TC跟坩堝底部接觸的方式測(cè)量溫度?？折釄宓募訜釋?shí)驗(yàn)結(jié)果如下圖所示，這些加熱實(shí)驗(yàn)結(jié)果是在208V線(xiàn)電壓下進(jìn)行的。電流和電壓(沒(méi)有顯示)通過(guò)RMS儀表測(cè)量。

通過(guò)以上的溫度與電流的關(guān)系，我們可以設(shè)定并控制電流以達(dá)到坩堝內(nèi)想要的溫度，溫度可以通過(guò)熱電偶來(lái)測(cè)量。材料防止在坩堝中熱損失和加熱時(shí)間的常量將會(huì)發(fā)生變化，然而坩堝內(nèi)的溫度和熱電偶的測(cè)量值之間的關(guān)系將不會(huì)變化。因此，我們的技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)坩堝內(nèi)的溫度不依賴(lài)于大部分放入的材料，甚至不受線(xiàn)電壓值的影響。